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技術(shù)文章

關(guān)于XRF檢測(cè)儀的分析說明

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　　X射線熒光光譜(XRF)具有干擾小、分析速度快、并且可以同時(shí)進(jìn)行多元素分析等優(yōu)點(diǎn)，是固體物質(zhì)成分分析的常規(guī)檢測(cè)手段，也是一種重要的表面/表層分析方法。XRF分析儀具有快速、無損等特點(diǎn)，因此被廣泛應(yīng)用于材料檢測(cè)與分析領(lǐng)域。
 
　　X射線熒光光譜儀是一種元素分析工具，幾十年來一直是檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室的主要分析儀器之一。這種多樣化的無損檢測(cè)方法只需要很少的樣品制備工作，并且對(duì)操作人員的經(jīng)驗(yàn)要求并不是太高，而且，該檢測(cè)技術(shù)還可以快速提供準(zhǔn)確的檢測(cè)結(jié)果。
 
　　X射線熒光(XRF)是用高能量X射線或伽瑪射線轟擊材料時(shí)激發(fā)出的次級(jí)X射線。這種現(xiàn)象被廣泛用于元素分析和化學(xué)分析，特別是在金屬，玻璃，陶瓷和建材的調(diào)查和研究，地球化學(xué)，考古學(xué)和藝術(shù)品，例如油畫和壁畫。
 
　　原理：
 
　　當(dāng)物質(zhì)受到入射X射線的輻射時(shí)，其中的原子會(huì)吸收入射X射線的能量，然后再以熒光的形式重新輻射出來。
 
　　不同元素對(duì)應(yīng)不同的熒光信號(hào)，通過測(cè)量和分析這些熒光信號(hào)的能量和強(qiáng)度，可以準(zhǔn)確判斷樣品中所含有的元素。
 
　　XRF分析儀的主要構(gòu)成部分包括X射線發(fā)生器、樣品臺(tái)、熒光探測(cè)器和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)。
 
　　X射線發(fā)生器負(fù)責(zé)產(chǎn)生入射X射線，樣品臺(tái)用于放置待測(cè)樣品，熒光探測(cè)器則用于測(cè)量熒光發(fā)射信號(hào)，數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)負(fù)責(zé)對(duì)測(cè)量結(jié)果進(jìn)行分析和處理。
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